服务支持

SERVICE

常见问题
您的位置:首页 > 服务支持 > 常见问题

什么是掩模版?

光掩模版也叫MASKIC行业称Reticle,中文称呼还有光罩,铬板。

掩模版主要作为图形信息的载体,通过曝光过程,将图形转移到被曝光产品(硅片,导电玻璃,铜箔等)上,从而实现图形的转移。

常见的光掩模版有三种,铬版(chrome)、干版,菲林。

主要分两个组成部分,基板和不透光材料。基板通常是高纯度,低反射率,低热膨胀系数的石英玻璃。

铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层。

铬的硬度比玻璃略大,虽不易受损但有可能被玻璃所伤害。应用于芯片制造的光掩模为高敏感度的铬版。

干版涂附的乳胶,硬度小且易吸附灰尘,不过干版还有包膜和超微颗粒干版,其中后者可以应用于芯片制造。