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光学掩模版介绍
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什么是光学掩模版
产品概述:

光掩模   Photomask

 又称光罩,常见的有苏打/石英玻璃铬版、苏打玻璃干版和菲林,龙图公司能够设计、开发和制造从低端到高端的各种规格光掩模版,并为客户提供全方位的光掩模版解决方案。

 属于光掩模中最常见的一种,其透明基板为石英或苏打玻璃,通过真空镀膜形成铬及铬的氧化物光遮蔽层,再通过激光或电子束光刻的方法在遮蔽层上形成所需的精密图案,铬版与其它光掩模相比,具有精度高、抗划伤能力强和使用寿命长等优点而被广泛应用于半导体行业中的集成电路制造、平板显示行业中的液晶显示器、触摸屏制造及电子行业中的线板制造。也是龙图公司的主力产品,我们可以为客户提供各种尺寸规格、各种精度等级的石英或苏打玻璃铬版。