集成电路（IC）行业高精度光刻掩模版
产品概述：
可提供多种尺寸和规格的IC行业专用光刻掩模版，制作精度覆盖0.13um,0.18um,0.25um,0.35um,0.5um及以上芯片工艺节点（node），最小图形制作高达0.5um，制作精度+/-0.03um，如下表：
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Mask grade |
A |
B |
C |
D |
E |
F |
G |
H |
I |
J |
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Design rule |
＞2.0 |
2.0 |
1.5 |
1 |
0.8 |
0.5 |
0.35 |
0.25 |
0.18 |
0.13 |
|
CD mean to target (um) |
±0.3 |
±0.25 |
±0.2 |
±0.10 |
±0.10 |
±0.07 |
±0.05 |
±0.04 |
±0.03 |
±0.02 |
|
CD tolerance (um) |
±0.3 |
±0.25 |
±0.2 |
±0.10 |
±0.10 |
±0.07 |
±0.05 |
±0.04 |
±0.03 |
±0.02 |
|
CD range (um) |
0.25 |
0.20 |
0.15 |
0.15 |
0.12 |
0.1 |
0.06 |
0.04 |
0.05 |
0.02 |
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Defect size (um) |
＜2 |
＜1.5 |
＜1 |
＜0.8 |
＜0.75 |
＜0.5 |
＜0.35 |
＜0.25 |
＜0.28 |
＜0.20 |
同时，公司可提供专业的Pellicle Remount(重贴膜)服务，覆盖ASML，NIKON，CANNON等主流光刻机类型。
PRODUCT CENTER
深圳市宝安区新桥街道新玉路北侧圣佐治科技工业园
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