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半导体芯片掩模版制作设备
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  • MYCRONIC激光直写光刻系统SLX2
    SLX2是MYCRONIC最新推出的应用于集成电路(IC)行业的激光直写光刻系统,定位于制作集成电路(IC)0.13um及以上工艺节点光刻掩模版,此型号是OMEGA系列的升级版。 设备最小制作图形0.5um,制作图形质量更优于Omega6800,同时速度提升了2~3倍。
  • 光刻设备、辅助设备
       光刻机(Laser Writer)是制作高精度掩模版的关键设备。使用极细的激光光束,在极其精密自动控制系统控制下于掩模版基材上绘制出高精密线路图形。目前世界上能够生产大面积光刻机设备的公司只有两家,分别是瑞典的迈德特仪器(Micronic Mydata)与德国海德堡仪器(Heidelberg Instruments)公司。龙图公司拥有4台瑞典光刻设备与1台德国光刻设备,其综合生产能力处于国内前列。
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