什么是光学掩模版 了解详情>>

光掩模   Photomask 　又称光罩，是在透明基板上制作有各种所需光屏蔽图形，并精确定位，用于光刻工艺中对基片表面光致抗蚀剂（又称光刻胶、感光胶或光阻）涂层选择性曝光的图版结构。常见的有苏打/石英玻璃铬版、苏打玻璃干版和菲林，龙图公司能够设计、开发和制造从低端到高端的各种规格光掩模版，并为客户提供全方位的光掩模版解决方案。

铬版基材性能 了解详情>>

　　目前光掩模铬版的基板材料有石英玻璃和苏打玻璃（Soda-lime）两种。苏打玻璃常用在STN-LCD、TN-LCD、FED、EL行业专用光学掩模版基材；石英玻璃其材料热膨胀率小、有较好的透光率，通常用在TFT-LCD、IC、高精密光学器件的光掩模版基材。

产品尺寸与精度规格 了解详情>>

　　目前龙图光电公司可提供多种光学掩模版的尺寸和规格，具体信息请点击右侧的“了解详情”