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光学掩模版介绍
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  • 什么是光学掩模版
    光掩模   Photomask  又称光罩,是在透明基板上制作有各种所需光屏蔽图形,并精确定位,用于光刻工艺中对基片表面光致抗蚀剂(又称光刻胶、感光胶或光阻)涂层选择性曝光的图版结构。常见的有苏打/石英玻璃铬版、苏打玻璃干版和菲林,龙图公司能够设计、开发和制造从低端到高端的各种规格光掩模版,并为客户提供全方位的光掩模版解决方案。
  • 铬版基材性能
      目前光掩模铬版的基板材料有石英玻璃和苏打玻璃(Soda-lime)两种。苏打玻璃常用在STN-LCD、TN-LCD、FED、EL行业专用光学掩模版基材;石英玻璃其材料热膨胀率小、有较好的透光率,通常用在TFT-LCD、IC、高精密光学器件的光掩模版基材。
  • 产品尺寸与精度规格
      目前龙图光电公司可提供多种光学掩模版的尺寸和规格,具体信息请点击右侧的“了解详情”
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