新闻资讯

NEWS

公司新闻
您的位置:首页 > 新闻资讯 > 公司新闻

MYCRONIC激光直写光刻系统SLX2

2020-12-17   信息来源:龙图光电

公司重资引进瑞典MYCRONIC激光直写光刻系统SLX2

SLX2MYCRONIC最新推出的应用于集成电路(IC)行业的激光直写光刻系统,定位于制作集成电路(IC0.13um及以上工艺节点光刻掩模版,此型号是OMEGA系列的升级版。

设备最小制作图形0.5um,制作图形质量更优于Omega6800,同时速度提升了2~3倍。

SLX2相关技术指标如下:

线边质量(Edge roughness3sigma12nm

CD精度控制(Mean to Target)与CD均匀性(uniformity) 3sigma小于15nm

位置精度(Registration3sigma25nm

套刻精度(Overlay)  3sigma15nm

上一篇:没有了

下一篇:ULTRA 200