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发展历程
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2020.12

重资引进瑞典MYCORNIC最新用于集成电路(IC)行业的激光直写光刻系统SLX2,其制作能力覆盖IC0.13um工艺节点需求。

2020.09

最新一台高精度掩模版光刻机开始安装调试,制作能力覆盖集成电路(IC) 0.18um节点需求。

2019.07

引入第五台高精度光刻设备开始安排调试。产能提升50%以上,交货速度也将保持行业最领先位置。

2017.03

获得知识产权管理体系认证。

2016.01

龙图公司战略转型和定位为专注半导体行业(分立器件、MEMSIC及封装)高精度掩膜版行业。

2014.01

公司产能比2013年提升了100%,交货速度提升50%

2013.12

龙图公司第三、第四台主力光刻设备开始安装调试。

2013.08

龙图公司获得国家级高新技术企业称号,成为中国大陆第二家获得此项荣誉的光掩模企业,创造了同行业从公司建立到取得“国高”最短时间记录。

2013.01

龙图公司年销售额提升40%,公司发展进入快车道。

2011.09

第二台主力瑞典MYCRONIC激光直写设备投产,在同等精度的条件下,光刻面积扩大至850X1200mm

2011.04

公司开发面向高精度半导体行业的双面贴Pellicle石英掩模版产品,并通过客户验证,开始稳定供货。

2010.10

获得ISO9001ISO14001认证,并全面推行零缺陷和TQM管理,产品通过国际企业审核,进入苹果、三星、华为等品牌的供应链体系。

2010.07

首台主力激光直写光刻设备投产。此设备为瑞典MYCRONIC公司制造,是中国大陆目前最为先进的光掩模生产系统之一,从4月份建厂到实现稳定投产,创造了中国大陆同类企业速度最快的记录。

2010.04

深圳市龙图光电有限公司成立。