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发展历程
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2013.12

 

龙图公司第四、第五台主力光刻设备开始安装调试。2014年公司产能将比2013年提升150%,交货速度预计提升50%

2013.08

 

龙图公司获得国家级高新技术企业称号。成为中国大陆第二家获得此项荣誉的光掩模企业,且创造了同行业从公司建立到取得“国高”最短时间的纪录。
2013.01 龙图公司年度销售额同比提高40%,公司发展开始进入快车道
2012.08 第三台主力Micronic激光直写设备投产,公司半导体掩模版产能提升一倍。

2011.09

 

第二台主力瑞典Micronic激光直写设备投产。设备厂家仍然为瑞典Micronic公司,在同等精度的条件下,光刻面积扩大至850X1200mm

2011.04

公司开发出面向高精度半导体行业的双面贴膜石英掩模版产品,并通过客户验证,开始稳定供货。

2010.10

 

获得ISO9001ISO14001认证。产品通过国际企业审核,产品进入苹果、三星、诺基亚、华为、中兴、联想、酷派、小米等一线品牌的供应链体系。

2010.07

 

首台主力激光直写光刻设备投产。此设备为瑞典Micronic公司制造,是中国大陆目前最为先进的光掩模生产系统之一。从4月份建厂到实现稳定投产,创造中国大陆同类电子企业速度最快的记录。
2010.04 深圳市龙图光电有限公司成立。